เครื่องเคลือบ PVD เป็นเครื่องมือทางอุตสาหกรรมขั้นสูงที่ออกแบบมาเพื่อการเคลือบฟิล์มบางบนพื้นผิวต่างๆ ด้วยเทคโนโลยี Physical Vapour Deposition PVD เป็นกระบวนการแบบสุญญากาศที่เกี่ยวข้องกับการทำให้วัสดุแข็งกลายเป็นไอและควบแน่นลงบนพื้นผิวเป้าหมาย ส่งผลให้ได้การเคลือบที่สม่ำเสมอ ทนทาน และมีประสิทธิภาพสูง วิธีการนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น อิเล็กทรอนิกส์ ยานยนต์ การบินและอวกาศ และอุปกรณ์ทางการแพทย์ เนื่องจากความสามารถในการปรับปรุงคุณสมบัติพื้นผิว เช่น ความแข็ง ความต้านทานการสึกหรอ และการป้องกันการกัดกร่อน

โดยทั่วไปเครื่องจักรจะประกอบด้วยห้องสุญญากาศ องค์ประกอบความร้อน แหล่งวัสดุเป้าหมาย และระบบควบคุมที่ซับซ้อน ในระหว่างการทำงาน สภาพแวดล้อมสุญญากาศจะป้องกันการปนเปื้อน ช่วยให้มั่นใจในความบริสุทธิ์และคุณภาพของฟิล์มที่สะสมอยู่ เทคนิค PVD ทั่วไป ได้แก่ การสปัตเตอร์และการระเหย ซึ่งแต่ละเทคนิคเหมาะสำหรับการใช้งานเฉพาะด้าน ตัวอย่างเช่น การสปัตเตอร์ริ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการสร้างการเคลือบที่แม่นยำบนเซมิคอนดักเตอร์ ในขณะที่การระเหยมักใช้สำหรับการเคลือบแบบออปติกและการตกแต่ง