เครื่องเคลือบ Physical Vapour Deposition ใช้เทคโนโลยีสุญญากาศขั้นสูงเพื่อสร้างชั้นฟิล์มที่บางและทนทานบนพื้นผิวต่างๆ ในระหว่างการทำงาน ระบบเหล่านี้จะสร้างสภาพแวดล้อมที่มีสุญญากาศสูงในขั้นแรกเพื่อกำจัดสิ่งปนเปื้อน กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับการระเหยวัสดุเคลือบแข็งผ่านการระเหยด้วยความร้อนหรือการสปัตเตอร์ ในการสปัตเตอร์ อนุภาคของก๊าซที่แตกตัวเป็นไอออนจะโจมตีวัสดุเป้าหมาย และทำให้อะตอมหลุดออกไปซึ่งต่อมาจะสะสมบนพื้นผิวชิ้นงาน วิธีการระเหยใช้ความร้อนสูงในการเปลี่ยนวัสดุเคลือบให้เป็นสถานะไอ

เครื่องจักรเหล่านี้มีระบบควบคุมที่ซับซ้อนซึ่งควบคุมอุณหภูมิ ความดัน และอัตราการสะสมเพื่อให้มั่นใจในคุณภาพของฟิล์มที่สม่ำเสมอ ห้องกระบวนการหลายห้องช่วยให้สามารถเคลือบตามลำดับในขณะที่ยังคงรักษาความสมบูรณ์ของสุญญากาศ ระบบ PVD ขั้นสูงรวมเอาการปรับปรุงพลาสมาเพื่อปรับปรุงการยึดเกาะและความหนาแน่นของสารเคลือบ