เครื่องเคลือบสูญญากาศเซรามิกไทล์กำลังผลิตสูงสำหรับทองคำและเงิน

เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD (Physical Vapor Deposition) เป็นระบบการสะสมฟิล์มบางขั้นสูงที่ใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ ทำงานภายใต้สภาวะสูญญากาศสูงเพื่อสะสมสารเคลือบที่บางและสม่ำเสมอบนพื้นผิวผ่านกระบวนการระเหยทางกายภาพ

เทคโนโลยีนี้ให้การยึดเกาะ ความทนทาน และความต้านทานการกัดกร่อนที่เหนือกว่าเมื่อเทียบกับวิธีการเคลือบแบบดั้งเดิม ส่วนประกอบสำคัญ ได้แก่:

• ห้องสูญญากาศ
• แหล่งระเหย
• แหล่งจ่ายไฟ
• ระบบควบคุม

เครื่องสามารถใช้เทคนิค PVD ที่แตกต่างกัน เช่น การสปัตเตอร์ การระเหย หรือการสะสมแบบอาร์ค มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการเคลือบเครื่องมือ การตกแต่งเพื่อการตกแต่ง การเคลือบแบบออปติคัล และการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

การเคลือบ PVD ให้ประโยชน์ต่อสิ่งแวดล้อมโดยลดการใช้สารเคมีอันตราย กระบวนการนี้สร้างสารเคลือบที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมการควบคุมความหนาที่แม่นยำ โดยทั่วไปมีตั้งแต่ระดับนาโนเมตรถึงไมโครเมตร

• แหล่งจ่ายไฟไบแอส: 1 ชุด
• ขาตั้งหมุน: 1 ชุด
• ระบบทำความร้อน: 1 ชุด
• โครงสร้าง: การโหลดด้านหน้าแนวตั้งหรือการโหลดแนวตั้ง
• วัสดุห้องสูญญากาศ: สแตนเลส
• ขนาดภายในห้องสูญญากาศ: ผลิตตามสั่ง

หลังจากการเคลือบ PVD ฮาร์ดแวร์สแตนเลสสตีลจะแสดงสีตกแต่งเพื่อความสวยงามยิ่งขึ้น ฮาร์ดแวร์ PVD ที่มีฟิล์มยึดเกาะที่แข็งแรงจะมีอายุการใช้งานที่ยาวนานขึ้นและมีมูลค่าทางการตลาดสูงขึ้น