PVD คืออะไร?

    PVD ย่อมาจาก Physical Vapor Deposition ซึ่งเป็นวิธีการเคลือบผิวชนิดหนึ่ง หรือที่เรียกว่าการชุบแบบสุญญากาศ การเคลือบผิวนี้จะช่วยให้ผลิตภัณฑ์ของเรา (เช่น เครื่องใช้บนโต๊ะอาหาร กระเบื้องเซรามิก เฟอร์นิเจอร์ ฯลฯ) มีอายุการใช้งานยาวนานขึ้น สวยงามยิ่งขึ้น และมีความยึดเกาะของฟิล์มที่แข็งแรง

    การเคลือบ PVD ส่วนใหญ่ประกอบด้วย Multi Arc (Cathodic Arc), Magnetron Sputtering และ Thermal Evaporation

    Multi Arc ใช้แหล่งกำเนิดอาร์คกระแสไฟฟ้าสูงเพื่อหลอมโลหะเป้าหมายให้กลายเป็นไอออน จากนั้นทำปฏิกิริยากับก๊าซต่างๆ (Ar, N2, C2H2, O2) เพื่อเคลือบบนพื้นผิวผลิตภัณฑ์

    แตกต่างจาก Multi Arc การเคลือบแบบ Magnetron Sputtering ใช้พลังงานจากสนามแม่เหล็กและไอออนของก๊าซ Ar โดยการระดมยิงก๊าซ Ar และโลหะเป้าหมาย จะเกิดไอออนมากขึ้น จากนั้นทำปฏิกิริยาเพื่อเคลือบ

    เมื่อเทียบกับ 2 ประเภทข้างต้น การระเหยด้วยความร้อน (Thermal Evaporation) เข้าใจได้ง่ายกว่า เป็นเพียงการใช้ลวดทังสเตนเพื่อหลอมลวดอลูมิเนียม (ลวดนิกเกิลโครเมียม ลวดทองแดง ลวดดีบุก ลวดอินเดียม ฯลฯ) ให้กลายเป็นอะตอมเพื่อเคลือบ